技術(shù)支援
No. | 標(biāo)題 | 日期 | 閱讀數(shù) |
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1 | 什么是等離子? KRi 如何創(chuàng)造它, 我們用它做什么? | 2025-10-10 | 3 |
2 | IBE 離子束刻蝕機應(yīng)用優(yōu)勢 | 2025-10-10 | 2 |
3 | 在線質(zhì)譜分析儀多相熱催化反應(yīng)氣體分析 | 2025-10-09 | 6 |
4 | 美國 KRi 考夫曼離子源 KDC 40 應(yīng)用于 IBE 刻蝕 + E-beam 高真空雙腔系統(tǒng) | 2025-09-19 | 6 |
5 | KRi 霍爾離子源 EH 1000 應(yīng)用于科研級薄膜沉積設(shè)備 | 2025-09-05 | 4 |
6 | IBE 離子束干法刻蝕機在精密光柵加工中的應(yīng)用優(yōu)勢 | 2025-09-12 | 11 |
7 | 四級桿質(zhì)譜在液相色譜質(zhì)譜法 LC-MS 應(yīng)用 | 2025-09-22 | 12 |
8 | Gel-Pak BTXF 芯片托盤提供晶圓全面檢測中器件運輸?shù)慕鉀Q方案 | 2025-09-03 | 10 |
9 | ULVAC-PHI X 射線光電子能譜儀性能優(yōu)勢 | 2025-08-13 | 2 |
10 | KRi 三層?xùn)啪W(wǎng)射頻離子源 RFICP 220 精密光學(xué)鍍膜應(yīng)用 | 2025-09-19 | 12 |