上海 KRi 考夫曼離子源應(yīng)用
| No. | 標(biāo)題 | 日期 | 閱讀數(shù) |
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| 1 | 美國 KRi 考夫曼離子源 KDC 40 應(yīng)用于 IBE 刻蝕 + E-beam 高真空雙腔系統(tǒng) | 2025-09-19 | 6 |
| 2 | KRi 霍爾離子源 EH 1000 應(yīng)用于科研級(jí)薄膜沉積設(shè)備 | 2025-09-05 | 4 |
| 3 | KRi 三層?xùn)啪W(wǎng)射頻離子源 RFICP 220 精密光學(xué)鍍膜應(yīng)用 | 2025-09-19 | 12 |
| 4 | KRi 射頻離子源 RFICP 220 MEMS 探針光柵刻蝕應(yīng)用 | 2025-09-19 | 17 |
| 5 | KRi 考夫曼離子源常見真空應(yīng)用 | 2025-09-21 | 19 |
| 6 | KRi 射頻離子源 RFICP 220 精密光學(xué)鍍膜解決方案 | 2025-08-19 | 34 |
| 7 | 美國 KRi 射頻離子源 RFICP 40 應(yīng)用于氧化物薄膜及異質(zhì)結(jié)制備系統(tǒng) | 2025-08-12 | 78 |
| 8 | 上海伯東提供適用于光學(xué)鍍膜機(jī)的離子源和真空系統(tǒng) | 2025-08-06 | 69 |
| 9 | KRi 離子源應(yīng)用于藍(lán)玻璃 AR工藝 | 2025-08-11 | 90 |
| 10 | KRi 射頻離子源應(yīng)用于紅外截止濾光片 IRCF 工藝 | 2025-07-28 | 68 |