上海 KRi 考夫曼離子源應(yīng)用
| No. | 標(biāo)題 | 日期 | 閱讀數(shù) |
|---|---|---|---|
| 1 | KRi 射頻離子源 RFICP 100 應(yīng)用于國產(chǎn)離子束濺射鍍膜機(jī) IBSD | 2025-07-28 | 55 |
| 2 | 美國 KRi 離子源常見工藝應(yīng)用 | 2025-07-28 | 48 |
| 3 | KRi 離子源 e-beam 電子束蒸發(fā)系統(tǒng)輔助鍍膜應(yīng)用 | 2025-08-25 | 74 |
| 4 | KRi 射頻離子源 IBSD 離子束濺射沉積應(yīng)用 | 2025-07-24 | 60 |
| 5 | KRi 考夫曼離子源表面預(yù)清潔 Pre-clean 應(yīng)用 | 2025-08-25 | 48 |
| 6 | 美國 KRi 霍爾離子源輔助鍍膜 IBAD 應(yīng)用 | 2025-03-01 | 44 |
| 7 | 真空鍍膜常見術(shù)語中英文對照 | 2025-07-28 | 138 |
| 8 | 上海伯東 Hakuto 真空設(shè)備在真空鍍膜行業(yè)應(yīng)用實(shí)例 | 2025-09-04 | 142 |
| 9 | KRI 美國考夫曼離子源離子束里的電荷與動(dòng)能交換 | 2025-07-28 | 165 |
| 10 | 真空鍍膜應(yīng)用解決方案Solutions for Vacuum Coating Application | 2025-07-28 | 134 |