上海 KRi 考夫曼離子源應(yīng)用
| No. | 標(biāo)題 | 日期 | 閱讀數(shù) |
|---|---|---|---|
| 1 | KRi 大尺寸射頻離子源樹(shù)脂鏡片高性能 AR 工藝 | 2025-07-28 | 77 |
| 2 | KRi 射頻離子源應(yīng)用于車(chē)載攝像頭鏡片鍍膜工藝 | 2025-07-28 | 83 |
| 3 | KRI 離子源應(yīng)用于金屬熱蒸鍍?cè)O(shè)備 Metal Thermal Evaporation System | 2025-07-28 | 118 |
| 4 | KRI 射頻離子源應(yīng)用于多層膜磁控濺鍍?cè)O(shè)備 Multilayer sputter | 2025-07-28 | 94 |
| 5 | KRI 離子源應(yīng)用于電子束蒸鍍?cè)O(shè)備 E-beam Evaporation System | 2025-08-25 | 84 |
| 6 | KRI 離子源應(yīng)用于磁控共濺鍍?cè)O(shè)備 Co-sputter | 2025-07-28 | 60 |
| 7 | 上海伯東美國(guó) KRI 考夫曼離子源簡(jiǎn)介 | 2025-07-28 | 65 |
| 8 | KRI 離子源應(yīng)用于超高真空磁控濺鍍?cè)O(shè)備 UHV Sputter | 2025-03-01 | 56 |
| 9 | KRI 離子源應(yīng)用于超高真空電子束蒸鍍?cè)O(shè)備 UHV E-beam System | 2025-07-24 | 51 |
| 10 | KRI 離子源應(yīng)用于有機(jī)材料熱蒸鍍?cè)O(shè)備 OLED, OPV | 2025-07-28 | 63 |