IBE 離子束刻蝕機(jī)刻蝕材料和速率
上海伯東 IBE 離子束刻蝕機(jī)可用于反應(yīng)離子刻蝕 RIE 不能很好刻蝕的材料.是一種干法物理納米級(jí)別的刻蝕, 刻蝕均勻性 ≤±5%(部分材料 ±3%). IBE 刻蝕機(jī)幾乎滿足所有材料的刻蝕. 例如磁性材料, 黃金 Au, 鉑 Pt, 合金等金屬及復(fù)合半導(dǎo)體材料, 廣泛應(yīng)用于 RF 射頻器件, MEMS 傳感器, 磁性器件 … 等研究.

對(duì)于“難去除”的材料比如貴金屬（如金和鉑）, 壓電材料（鋯鈦酸鉛 PZT ,  鈮酸鋰 LiNbO3 和 氮化鋁鈧 AlScN, 或用于 MRAM 和 STT-MRAM 的材料（如 Al 2 O 3 , Ni, Fe, Cr, Co, Cu, Mn 和 Pd 等）上海伯東 IBE 離子束刻蝕機(jī)同樣有著穩(wěn)定的刻蝕均勻性.

上海伯東 IBE 離子束刻蝕機(jī)優(yōu)勢(shì)
1. 滿足刻蝕的線條寬度要求
2. 滿足刻蝕準(zhǔn)直度要求
3. 可以實(shí)現(xiàn) ICP 和 RIE 無(wú)法進(jìn)行的刻蝕
4. 離子束角度可以±90°任意調(diào)整, 蝕刻可以根據(jù)需要做垂直, 斜面等等加工形狀




上海伯東 IBE 離子束刻蝕機(jī)優(yōu)勢(shì)
1. 滿足刻蝕的線條寬度要求
2. 滿足刻蝕準(zhǔn)直度要求
3. 可以實(shí)現(xiàn) ICP 和 RIE 無(wú)法進(jìn)行的刻蝕
4. 離子束角度可以±90°任意調(diào)整, 蝕刻可以根據(jù)需要做垂直, 斜面等等加工形狀
5. IBE 自動(dòng)化配置更完善: Loadlock 系統(tǒng), 載臺(tái)電動(dòng)旋轉(zhuǎn)（自動(dòng)控制）

IBE 離子束刻蝕機(jī), 刻蝕材料和速率一覽表


自 1970年至今, Hakuto 伯東已累計(jì)交付約 500套離子刻蝕機(jī). 刻蝕機(jī)配置德國(guó) Pfeiffer 渦輪分子泵. 伯東公司超過 50年的 IBE 離子束刻蝕市場(chǎng)經(jīng)驗(yàn), 擁有龐大的安裝基礎(chǔ)和經(jīng)過市場(chǎng)驗(yàn)證的刻蝕技術(shù)!

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上海伯東: 葉小姐                                   臺(tái)灣伯東: 王小姐
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